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URE—2000S/25型单、双面紫外光刻机

 

技术特点:
   该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术,单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计,掩模—样片对准过程直观,套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式,操作方便。?
主要技术指标:
★?曝光面积:150mm×150mm;
★?分辨力:1.5μm(胶厚2?μm的正胶);
★?对准精度:±2.5μm(双面),±1μm(单面);?
★?掩模尺寸:3?inch、4?inch、5?inch、7?inch;
★?样片尺寸:直径ф30mm--?ф150mm、?
      厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm);
★?照明均匀性:?±4%(ф100mm范围);±7%(ф150mm范围)?
★?掩模相对于样片运动行程:X:?±5mm; ?Y:?±5mm; θ:±6°;
★?汞灯功率:350W(直流);?
★?曝光方式:定时(倒计时方式)?

 

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